汞製程設備(半導體/傳統產業)
製程汞分析：先分水樣與氣體
提供樣品基質、預期汞濃度與測點位置。水樣評估前處理，氣體另核對溫濕與採樣管路。
本分類產品
針對水及水溶液。先確認水樣基質與預期濃度，低濃度可評估金汞齊富集版本。
同系列用於製程端汞監測，依氣體基質、量程與資料介面評估。
選型時一起確認
請確認是固定連續監測、定期調查或製程控制，並核對所需量程、校正方式和資料輸出。
用於製程應用中的水和水溶液的汞分析儀 PA-2 / PA2-Gold
汞分析儀PA-2用於連續監測工業過程中的汞濃度。
過程汞分析儀PA-2用於連續監測工業過程中的汞濃度。 該系統結合VM-3000或UT-3000光度計，可滿足測量精度和靈敏度的不同要求。
煙氣中的汞排放總量監測儀 SM-5
得益於20多年的汞測量經驗， 新型SM-5 CEMS汞分析儀設計用於對煙氣排放中低濃度的汞提供非常準確和可靠地連續測量。
SM-5具有回應時間短、動態範圍廣、在各種工況下都能穩定測量的特點。