氣狀物測量
氣體濃度量測分析儀｜MIR-IS・LAS 5000XD・Graphite 52M・LC-450A・GPA 2000 一站式精準掌握
⚙️ 酸性氣體、VOC、氧氣與氣體純度量測新標準
增誠科技整合 ENVEA 系列：MIR-IS 抽取式多成分（HCl／HF／NH₃）、LAS 5000XD 原位 TDLS、Graphite 52M 加熱 FID（THC／nmHC／CH₄）、LC-450A 氧化鋯 O₂ 與 GPA 2000 氣體純度分析儀，1 s 響應、QAL1／Ex Zone II、ppm-% 量程全覆蓋，支援 4-20 mA／Modbus，適用焚化爐、石化、鋼鐵與半導體製程優化。
🧩 代表機型與特色
| 類別 | 代表機型 | 量測對象 & 量程 | 去水方式 & 關鍵亮點 |
|---|---|---|---|
| 多成分抽取式（冷乾法） | MIR-IS | HCl、HF、NH₃、NOₓ、SO₂、CO、CO₂、O₂… | 滲透式乾燥器：經 SEC 技術將露點降至 < –40 °C；樣氣乾燥但化學成分（酸性氣體）無損失；取樣管路常溫，安裝成本低，QAL1 認證 |
| 多成分抽取式（乾基 SEC 系統） | SEC Box + MIR 9000 | 同 MIR-IS + 可選 FID/CLD | 與 MIR-IS 相同 滲透管乾燥；探頭前 20 µm + 0.8 µm 雙級過濾，樣氣在室溫三芯管中傳輸最遠 130 m；免加熱管路、維護量最低 |
| 多成分抽取式（熱濕法） | MIR 9000H | HCl、HF、NH₃、NO、NO₂、SO₂、CO、CO₂、O₂、H₂O | 180 °C 全熱濕量測；QAL1 & USEPA 40 CFR 60/75；8 組分同步輸出 |
| 原位 TDLS | LAS 5000XD | HCl/HF/NH₃/O₂；ppm–% | 1 s 響應、Calibration-free、Ex Zone II；高粉塵高溫零漂移 |
| 全熱 FID | Graphite 52M | THC / nmHC / CH₄ 0–10 000 ppm | 191 °C 全熱路徑，QAL1；H₂ 或 H₂/He 燃料皆可 |
| 氧氣分析 | LC-450A | 1 ppm – 100 % O₂ | 氧化鋯 + 內建泵浦；AC/DC，感測器壽命 ≈ 5 年 |
| 氣體純度 | GPA 2000 | H₂ / N₂ / O₂ 純度 & 雙成分比 | 觸控螢幕三模式；空分、PSA、渦輪 H₂ 冷卻皆適用 |
💡 為何強調「滲透式乾燥器」？
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露點 < –40 °C，水分 < 1 000 ppm，不必再做水分修正，量測值即為乾基。
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酸性氣體保留率高：滲透膜排水不排氣，HCl、SO₂、NO₂ 無明顯吸附損失。
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無加熱管線：傳輸距離可達 130 m，布線與運維成本遠低於熱濕或加熱抽取。
💡 三大差異化優勢
1️⃣ 技術組合最完整
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抽取式冷乾 / 熱濕分析：MIR-IS、MIR 9000H 可對應所有煙道狀態與酸性氣體需求。
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TDLS：原位 1 s 監測酸性氣體，無取樣系統維護。
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FID：191 °C 全熱路徑，VOC 高濃度亦不冷凝。
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ZrO₂ & 純度熱導：ppm-% O₂ / H₂ / N₂ 一機涵蓋。
2️⃣ 合規認證到位
MIR-IS、MIR 9000H、LAS 5000XD 與 Graphite 52M 皆通過 EN 15267 QAL1；LC-450A、GPA 2000 具 CE 與多國半導體設備合規。
3️⃣ 安裝維護零死角
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MIR-IS 與 SEC 系統常溫乾式傳輸管路，維護量最低。
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Graphite 52M 內建空白 / 零氣循環；LAS 5000XD 不需校正氣。
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LC-450A 感測器壽命可達 5 年；GPA 2000 觸控操作 5 分鐘完成氣體切換。
❓ 常見問答（FAQ）
Q1：LAS 5000XD 與抽取式 FTIR 有何差異？
LAS 5000XD 原位量測、1 s 響應，免取樣/乾燥；FTIR 適合一次量測 10+ 組分但反應較慢，維護成本高。
Q2：Graphite 52M 為何需全加熱？
FID 對 VOC 的偵測易受冷凝影響。Graphite 52M 將整條氣路加熱到 191 °C，可維持痕量/高濃度線性且避免水汽干擾。()
Q3：若需要低於 1 ppm O₂，LC-450A 可以嗎？
LC-450A 感測極限 1 ppm；如需更低可升級至 CAI 600 系列順磁式氧分析儀。
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現址式NH3,HCL,H2O,HF,CO,CO2分析儀-LAS5000X
原位鐳射 （TDLS ）氣體分析儀設計用於滿足各種 CEMS 和工業過程的要求。
LAS 5000XD 使用可調諧二極管鐳射光譜技術 （TDLS） ，並有多種型號可用於測量： NH3 + H2O， HF， CO + CO2， O2， HCl + H2O， 等。
分析儀用於在惡劣環境條件中提供堅固、快速響應時間 （1 s） 和高精確度的測量 （適用於Ex Zone II）。
LAS 5000XD 原位鐳射（TDLS）氣體分析儀的運營商受益：
無需採樣系統
不受氣體溫度影響
避免來自干擾氣體的影響
無需校準
得益於反吹氣路（ClearPath），消除吹掃區域內相對濕度， O2 或 CO2 干擾。
氧化鋯式氧氣分析儀LC-450A
結合簡單操作和小巧體量的最佳氧氣分析儀，可以集成到半導體和液晶器件等各種設備中。
氣體純度分析儀GPA2000
高純度氣體分析：適用於檢測工業與實驗室高純氣體的微量雜質。
高靈敏度：檢測範圍可達 ppm 或 ppb 級別。
快速響應：<1 秒的快速測量能力。
多功能應用：適用於半導體、電子製造與化工等領域。
模組化設計：方便安裝與維護，降低使用成本。
先進校準技術：內建自動校準功能，確保長期穩定性。
數據輸出：支援模擬與數位輸出介面（4-20 mA、RS485、以太網）。
操作簡便：直觀觸控屏操作介面，提升使用體驗。
環境適應性：適用於 5°C 至 40°C 的操作環境，濕度 ≤ 90% RH（無凝結）。
國際認證：符合 ISO 9001 與多項國際標準。
現址式多成分氣狀物分析儀MIR-IS
一體式多組分CEMS系統，包含MRI9000分析儀和SEC取樣系統。
在採樣點位置快速、同時測量多達10種氣體，包括：HCl，NO，NO2（NOx），SO2，CO，CO2，HC，CH4（TOC），HF，N2O，O2
•集成樣品乾燥和取樣系統，無需取樣管線
加熱抽取式多成分分析儀-MIR9000H
適用於熱濕應用場合，可測量：HCl、HF、NH3、NO、NO2、N2O、SO2、CO、H2O、CO2、O2和H2O。
加熱型多組分氣體NDIR-GFC分析儀（非分散紅外過濾相關法），應用於潮濕、腐蝕性應用場合，包括DeNOx裝置（SCR/SNCR）前後位置，來監測煙氣處理裝置的性能。
通過 TUV QAL1 認證 （符合EN 15267-3標準）
符合 EN 14181 的 QAL3 標準