期間: 2024-09-12 - 2026-09-13
半導體/面板廠製程濃度控制設備
半導體/面板廠製程濃度控制設備
在全球環保法規日益嚴格的背景下,如何選擇合適的氣體分析儀成為企業導入 CEMS(連續排放監測系統)時的關鍵課題。
本篇文章整理 FTIR、NDIR、NDIR-GFC 等主流技術的比較與應用情境,解析多成分氣體同步監測的實務需求,並說明如何依據產業、氣體種類與維護策略進行選型。無論您關注的是 NOx、SO₂、HCl 還是 CH₄,本指南將協助您掌握排放合規的核心關鍵。